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对于方形基片匀胶机的价格及匀胶质量进行分析【详细】
2020-03-27
桌面级高精度狭缝涂布机
2024-03-27
晶圆甩干机-spin rinse dryer
2024-03-04
芯片洁净室的温度与湿度
2024-02-28
薄膜与厚膜的区别
2024-02-26
晶圆清洗机
2024-02-23
全自动匀胶显影机
2024-02-22
半导体生产材料
2024-02-02
湿法刻蚀
2024-02-01
走近晶圆吸附
2024-01-31
离子注入工艺
2024-01-30
高精度狭缝式涂布机是在不同刚性或柔性基材上制备涂布工艺的理想选择。【详细】
中国“匀胶显影机”行业市场前景分析预测报告
匀胶显影机用机械手
华灿(光电)张家港
光刻机 -匀胶显影工艺前后的主要设备
中国科技大学
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二维光栅-自动涂胶显影机
匀胶机_如何选购
匀胶机-全息光栅匀胶机
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涂胶显影机产能分析
匀胶、刮胶、弯月牙涂胶方法的区别
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金属剥离工艺-lift off
公开招标:暨南大学大尺寸基片匀胶显影设备采购
高温热板烘烤
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化学抛光机-激光陀螺仪
匀胶机均匀性计算
高精度狭缝式涂布机是在不同刚性或柔性基材上制备涂布工艺的理想选择。
晶圆甩干机(spin rinse dryer,SRD),是一种常见的半导体清洗后干燥的方法,用途十分广泛.
芯片洁净室的温湿度通常由专门的环境监控系统进行实时测量和调整
在半导体制造领域,我们经常听到“薄膜制备技术”,“薄膜区”,“薄膜工艺”等词汇,那么有厚膜吗?薄膜与厚膜有什么区别呢?
全自动!高效率!全自动匀胶显影机是由我司自主研发用于半导体3寸至8寸(φ75mm-φ200mm)晶圆匀胶工艺的自动化设备。
在半导体生产中,许多工艺流程都会使用到气体,包括电子特气和普通工业气体。电子特气在半导体芯片产业中扮演着不可替代的角色。他们通过在制程中的不同步骤中的精确应用,确保了芯片的高度集成和可靠性。
专业主攻晶圆级湿法刻蚀液的厂家?刻蚀液种类和性能?晶圆级刻蚀液与传统行业的刻蚀液的区别?目前晶圆级刻蚀液市场?
晶圆吸附是指在晶圆表面附着一层化学物质,用以改变晶圆表面的物理化学性质,从而实现对半导体器件的制备和性能调节。吸附方式的选择对于半导体器件的质量和性能有着重要影响。
离子注入是一种半导体工艺,通过加速离子束将特定元素注入到半导体晶片的表面。这种工艺可以控制半导体的电性质和化学性质,从而实现特定的功能。离子注入在制造各种半导体器件中被广泛使用,是现代半导体工艺中非常重要的一部分。