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爱姆加电子设备有限公司专业从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有:匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式(Wet Bench)及单片(Single Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤(Hot Plate)、自动涂胶显影机|自动砂轮划片切割等设备;以及开发研制、升级换代、维修服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员,拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件,各类检测仪器等先进的设计手段.
产品适应不同工艺等级的客户要求,广泛应用于半导体、太阳能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工艺、平板显示及Photo-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。
先进的生产设备
向用户提供下列产品:
1. 全自动匀胶机
2. 2-12英寸的全自动匀胶机、显影机
3. 全自动砂轮划片机
4. 超声波焊线机
5. 半导体清洗机、刻蚀机
6. 半导体喷胶机
7. 方片匀胶、显影、清洗设备
8. 单片蚀刻机、自动剥离机(NMP&DMSO)
9. 激光陀螺仪化学抛光机
10. CMP化学抛光设备的翻新
聚酰亚胺的工艺特性
Polymide 匀胶机基本特性
聚酷亚胺(Polyimide,简写PI)指主链上含有酷亚胺环(-CO-NR-CO-)的一类聚合物,是综合性能最佳的有机高分子材料之一。在微电子器件领域,可用作介电层进行层间绝缘;或作为缓冲层可以减少应力、提高成品率;作为保护层可以减少环境对器件的影响
材料特性
良好的低成本化学显影特性,正负相高分辨率;快速光扩散反应保留结构中良好的机械和热学特性;低吸湿性;良好的介电特性以保护集成电路:充足的工艺窗口以应对工艺调整;出色的保存说点什么环境以及室温下稳定的性能以减少材料消耗,出色的铜钵结合特
组成成分
有机树脂、光敏剂、光催化剂、添加剂、溶剂
性适合不同的设计形貌。