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爱姆加电子设备
匀胶显影蚀刻专用设备生产商



专注
诚信创新
精工
专注成就品质,品质塑造未来!
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future!
走近 M+

    爱姆加电子设备有限公司专业从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有:匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式(Wet Bench)及单片(Single  Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤(Hot Plate)、自动涂胶显影机|自动砂轮划片切割等设备;以及开发研制、升级换代、维修服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员,拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件,各类检测仪器等先进的设计手段.



     产品适应不同工艺等级的客户要求,广泛应用于半导体、太阳能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工艺、平板显示及Photo-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。



     公司提供二手机台TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等厂商设备的备品、备件及应用材料的CMP设备维修翻业务 

先进的生产设备


向用户提供下列产品:


1.   全自动匀胶机                          

2.   2-12英寸的全自动匀胶机、显影机      

3.   全自动砂轮划片机                     

4.   超声波焊线机            

5.   半导体清洗机、刻蚀机               

6.   半导体喷胶机             

7.   方片匀胶、显影、清洗设备         

8.   单片蚀刻机、自动剥离机(NMP&DMSO)

9.   激光陀螺仪化学抛光机                

10.   CMP化学抛光设备的翻新

聚酰亚胺的工艺特性


Polymide 匀胶机基本特性


聚酷亚胺(Polyimide,简写PI)指主链上含有酷亚胺环(-CO-NR-CO-)的一类聚合物,是综合性能最佳的有机高分子材料之一。在微电子器件领域,可用作介电层进行层间绝缘;或作为缓冲层可以减少应力、提高成品率;作为保护层可以减少环境对器件的影响

材料特性

良好的低成本化学显影特性,正负相高分辨率;快速光扩散反应保留结构中良好的机械和热学特性;低吸湿性;良好的介电特性以保护集成电路:充足的工艺窗口以应对工艺调整;出色的保存说点什么环境以及室温下稳定的性能以减少材料消耗,出色的铜钵结合特

组成成分

有机树脂、光敏剂、光催化剂、添加剂、溶剂

性适合不同的设计形貌。

全自动匀胶显影机