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    爱姆加电子设备有限公司专业从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有：匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single  Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤（Hot Plate）、自动涂胶显影机｜自动砂轮划片切割等设备；以及开发研制、升级换代、维修服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等先进的设计手段.

     产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体、太阳能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工艺、平板显示及Photo-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。

先进的生产设备

向用户提供下列产品：

1.   全自动匀胶机                          

2.   2-12英寸的全自动匀胶机、显影机      

3.   全自动砂轮划片机                     

4.   超声波焊线机　　　　　　　　　　　　

5.   半导体清洗机、刻蚀机               

6.   半导体喷胶机　　　　　　　　　　　  

7.   方片匀胶、显影、清洗设备         

8.   单片蚀刻机、自动剥离机（NMP&DMSO)

9.   激光陀螺仪化学抛光机                

10.   CMP化学抛光设备的翻新

聚酰亚胺的工艺特性

Polymide 匀胶机基本特性

聚酷亚胺(Polyimide，简写PI)指主链上含有酷亚胺环(-CO-NR-CO-)的一类聚合物，是综合性能最佳的有机高分子材料之一。在微电子器件领域，可用作介电层进行层间绝缘;或作为缓冲层可以减少应力、提高成品率;作为保护层可以减少环境对器件的影响

材料特性

良好的低成本化学显影特性，正负相高分辨率;快速光扩散反应保留结构中良好的机械和热学特性;低吸湿性;良好的介电特性以保护集成电路:充足的工艺窗口以应对工艺调整;出色的保存说点什么环境以及室温下稳定的性能以减少材料消耗，出色的铜钵结合特

组成成分

有机树脂、光敏剂、光催化剂、添加剂、溶剂

性适合不同的设计形貌。