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爱姆加电子设备

半导体匀胶显影清洗蚀刻设备生产商

诚信创新

专注

精工

专注成就品质，品质塑造未来！

Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！

先进的技术研发团队

M+公司简介

爱姆加电子设备有限公司从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有：匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤（Hot Plate）、自动涂胶显影机、自动砂轮划片切割等设备；以及开发研制、升级换代、维修服务。

公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等先进的设计手段。

公司向用户提供下列产品：

产品适用范围

二手设备维修翻新业务

专业的解决方案

产品广泛应用于半导体、太阳能MICROLEDMINILED、MEMS、 PUMPING工艺、平板显示及PHOTO-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺。

全自动匀胶机

全自动砂轮划片机

半导体清洗机、刻蚀机

方片匀胶、显影、清洗机

激光陀螺仪化学抛光机

2-12英寸的全自动匀胶机、显影机
超声波焊机
半导体喷机
单片蚀刻机、自动剥离机（NMP/DMSO)
CMP化学抛光设备的翻新

公司提供二手机台：全自动匀胶机TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等厂商设备的备品、备件及应用材料的CMP设备维修翻新业务。

——— Product ———

产品中心

超声喷胶设备

匀胶显影设备

槽式清洗设备

剥离撕金设备

备品备件

代理产品

高温热板设备

溅射设备代理产品

全自动匀胶显影机

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:2000000.00

价格:2000000.00

产品特点：  　   同一设备实现2"-12"晶圆 　   涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能 　   同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行 　   设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰 　   可独立增加层流罩，提升小环境洁净度 　   干湿分离，电液分隔 　   维护省力、简便
全自动匀胶显影机

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:1500000.00

价格:1500000.00

‍产品特点：        设备实现2"-12"晶圆兼容       涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能       同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行       设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰       可独立增加层流罩，提升小环境洁净度       干湿分离，电液分隔       维护省力、简便
12英寸自动匀胶显影机－爱姆加电子

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:3000000.00

价格:3000000.00

<ul class=" list-paddingleft-2" style="width: 750.484px; color: rgb(0, 0, 0); font-family: "sans serif", tahoma, verdana, helvetica; font-size: 12px; text-wrap: wrap;"><li>自动匀胶显影机 使用范围： pumping高端封装、3D-TSV、MEMS、OLED等领域PR工艺涂胶胶显影； 产能：预估100wafer/H; 产品种类：晶片如硅、玻璃片、键合片、化合物产品、逻辑类、存储类芯片、 摄像头芯片、功率器件芯片、OLED领域。</li></ul>
半自动涂胶显影机－爱姆加电子

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:500000.00

价格:500000.00

特点： 手动上下取片 自动滴胶、甩胶、匀胶 供胶系统 排风系统 可配EBR&BSR功能
500方形基片涂胶机

全息光栅匀胶/显影机

市场价:20000000.00

价格:20000000.00

方形基片匀胶机，型号M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光栅涂胶机）、大尺寸玻璃片匀胶机、方形基片显影机等匀胶、显影、清洗工艺
弯月牙涂胶机(狭缝式涂布机

全息光栅匀胶/显影机

市场价:50000000.00

价格:50000000.00

用途：主要用于光阻涂胶工艺，原理是借用于液体的涨力原理进行弯月牙涂胶，主要装置就液刀口溢出的光阻涂布在基板表面。
方形基片显影机

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:20000000.00

价格:20000000.00

半自动显影设备M+/D450-40，主要用于完成基片显影工艺。 适应于方形基片尺寸为450×450×40mm的玻璃，承片台固定基本，采购SUS材料，镶嵌式固定方式。 手动放置基片，自动完成基片进行显影、DI-Water清洗等工艺处理。
匀胶机-爱姆加电子

自动匀胶显影机/自动清洗机

市场价:500000.00

价格:500000.00

匀胶机-针对实验室使用 <span class="text_argYK" data-text="true" style="box-sizing: content-box; position: relative; color: rgb(51, 51, 51); font-family: "Helvetica Neue", Helvetica, Arial, "PingFang SC", "Hiragino Sans GB", "Microsoft YaHei", "WenQuanYi Micro Hei", sans-serif; font-size: 14px; text-indent: 28px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255);">匀胶机是在高速旋转的基片<span class="text_argYK" data-text="true" style="box-sizing: content-box; position: relative; color: rgb(51, 51, 51); font-family: "Helvetica Neue", Helvetica, Arial, "PingFang SC", "Hiragino Sans GB", "Microsoft YaHei", "WenQuanYi Micro Hei", sans-serif; font-size: 14px; text-indent: 28px; text-wrap: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255);">上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度

新开发产品

超声波喷雾涂胶机

新开发设备

市场价:8000000.00

价格:8000000.00

用途：喷雾式涂布机主要用于开发研究和各种半导体器件（MEMS)和微机械。对应于超厚膜涂层，它是很难通过常规的旋涂机微粒的化学溶液，以使通过的特殊定制的喷雾喷嘴水平薄涂层。
热板炉 M+HP200

新开发设备

市场价:0.00

价格:0.00

主要用途:  主要用半导体工艺生产中烘烤晶圆等(如:涂胶/显影/光刻等工艺之后的烘烤)
半导体晶圆清洗机

新开发设备

市场价:0.00

价格:0.00

RCW
冷板热板一体机

新开发设备

市场价:0.00

价格:0.00

冷热板烘烤单元－爱姆加制造