全自动匀胶显影机
发布时间: 2020-03-24 16:35
Wafer Size: 2-12英寸(兼容尺寸依据客户晶圆尺寸可选)
全自动匀胶显影一体机
设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰
设备实现2"-12"晶圆涂胶(SPIN COATING)-显影模
(SPIN DEV)-OVEN单元(冷热板及增粘功能可选)
同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
自带暂停/恢复功能,以及故障排除功能,排风自动调节(可选)
全自动匀胶显影
产品特点及基本配置:
同一设备实现2"-12"晶圆
涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能
同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰
可独立增加层流罩,提升小环境洁净度
干湿分离,电液分隔
维护省力、简便
匀胶单元-显影机-OVEN单元(HMDS+HP+CP)