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全自动匀胶显影机
    发布时间: 2020-03-24 16:35    

Wafer Size: 2-12英寸(兼容尺寸依据客户晶圆尺寸可选)
全自动匀胶显影一体机

设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰

设备实现2"-12"晶圆涂胶(SPIN COATING)-显影模
 (SPIN DEV)-OVEN单元(冷热板及增粘功能可选)

同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行

自带暂停/恢复功能,以及故障排除功能,排风自动调节(可选)

全自动匀胶显影机

全自动匀胶显影

产品特点及基本配置: 

    同一设备实现2"-12"晶圆
    涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能
    同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
    设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰
    可独立增加层流罩,提升小环境洁净度
    干湿分离,电液分隔
    维护省力、简便 

      匀胶单元-显影机-OVEN单元(HMDS+HP+CP)