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全自动匀胶显影机
    发布时间: 2020-03-24 16:35    

产品特点: 
    同一设备实现2"-12"晶圆
    涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能
    同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
    设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰
    可独立增加层流罩,提升小环境洁净度
    干湿分离,电液分隔
    维护省力、简便



一、spin unit匀胶单元平面图:



                                                                                                   二、OVEN UNIT:热板-HOT PLATE、冷板-COOL PLATE、HMDS 


                                                                                                   热板烘烤单元的加热源,对于半导体硅片的工艺设备,软烘及显影的烘烤,对于热源的均匀性要求也很高,
                                                                                                   M+公司自已开发的加热源,此装置对于烘烤的精度效果会便好。


                                                                                                   自动匀胶机、自动显影机、单片清洗机的设备都配有热板单元,以下是M+公司的清洗单元: