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掩膜版涂胶机-爱姆加
    发布时间: 2020-10-08 18:56    

此设备主要用于photomask 涂布工艺
晶圆尺寸wafer size:12英寸（根据客户晶圆选购）
喷胶装夹工具可选订

掩膜版涂胶机-爱姆加
photomask coater     

型号：Ｍ+-DS200C 主要特点：  

适应尺寸：200mm×200mm t=1-8mm以下方形基片

具有旋涂、匀胶、清洗、吹氮功能

主轴采用进口电机及部件

高转速、精度±1RPM

FFU-THC功能（可选）

相对于OLED、TFT的工艺的要求.

掩膜版涂胶机