匀胶机又称甩胶机、旋转涂膜机、旋转涂胶机、旋转涂布机主要用于晶片涂光刻胶用或溶胶-凝胶实验中的薄膜制备。

匀胶机的基本原理是在高速旋转的基片上，

滴注各类胶液利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，膜的厚度与胶液的粘稠度、胶液与基片间的粘滞系数、转数、旋涂时间都有关系

一般情况下，转速在2000rpm以上时就可以使绝大多数的胶体均匀分布，主轴转速的稳定性和重复性是决定胶膜厚度均匀性和一致性的关键，。

匀胶机主要应用于微机电系统的微加工、生物、材料、半导体、制版、新能源、薄膜、光学及表面涂覆等领域或样件较小无法使用提拉涂膜或刮膜的方式进行涂膜的基片的涂膜。

通常固定样品的方式有两种：真空吸盘固定样品、带卡槽的样品盘固定样品。用真空吸盘固定样品时需要有抽真空的装置，真空吸附适用于固定表面光滑，平整度好，受真空吸力不变形的基片；

带卡槽的样品盘可用于质软、形状不规则的、尺寸较大的基片的固定。