爱姆加公司经过多年的研发及试验，针对于方形基片及异形基片有自己的涂布方式，同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：

以下是针对此基片的涂布效果的测量数据图：

同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：同时旋涂后的均匀性指标直径在200mm范围内的晶片，均匀性指标基本在2％之内，以下我公司针对异形基片涂布前的分析仿真图：