一、产品描述：

       此涂胶机设备，及匀胶机的涂布工艺是通过液体的涨力特性实现，先前国处的麻森理工大学将此装置主要用于军工的科研涂胶工艺，国外主要是用于大尺寸的K9玻璃的涂胶工艺，因为大尺寸的玻璃、超重量的基板很难用旋转工艺实现，所以就采用此装置 ，此设备主要用于涂布较薄光阻工艺，一般不会超过1微米厚的光阻。

二、特点：        

1、相对于旋转涂胶工艺的话，在工艺方面还是不如SPINcoater涂布工艺好；

2、但对于光阻的提拉涂胶工艺是完全优于的，也省光阻、减少工艺工序；

3、目前国内比较普遍使用的是刮涂涂胶工艺，刮涂的工艺对光阻的成膜水平不高，对于光栅可能也到了极限；

4、钢带光栅涂胶设备省光阻.

三、重要指标：  

1、大尺寸、超重理的K9玻璃涂胶工艺就可以实现

2、光阻的适应范围有限,光刻胶的成膜是均匀性在+/-3%左右（相对于CP值低于15CP的光阻）；

3、长度方面没有限制，尤其是钢带的长度，宽度方面不益过长