光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?黏度对工艺的影响有哪些?光刻胶何时需要稀释呢?
光刻胶是否需要稀释应该取决于它的初始黏度、工艺所需厚度、旋涂设备能力等。一些光刻胶是供应商预先配置的,黏度已经调整至工艺需求,不需要自行稀释。但是,如果光刻胶的初始黏度太高,超过工艺需求,那么可能要进行稀释。有时候,通过调整旋涂设备的参数无法得到所需涂层,但又不想更换光刻胶就可以考虑调整光刻胶粘度。也可考虑在线黏度控制系统,其中包括黏度计、稀释系统等。当黏度计测得的黏度大于设定黏度时,稀释系统会自动补加相应溶剂,直至达到工艺设定值时停止。