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产品详情
自动匀胶机、显影机
产品特点:
  同一设备实现2"-12"晶圆
  涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能
  同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
  设备和各工位全封闭设计,不受外环境干扰
  可独立增加层流罩,提升小环境洁净度
  干湿分离,电液分隔
  维护省力、简便

                              一、spin unit匀胶单元平面图:

                                  二、OVEN UNIT

                           (热板-HOT PLATE、冷板-COOL PLATE、HMDS                     

   热板烘烤单元的加热源,对于半导体硅片的工艺设备,软烘及显影的烘烤,对于热源的均匀性要求也很高,M+公司自已开发的加热源,此装置对于烘烤的精度效果会便好。

自动匀胶机、自动显影机、单片清洗机的设备都配有热板单元,以下是M+公司的清洗单元: