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5
匀胶显影机的功能
来源:
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作者:
pmoe2a7d5
|
发布时间:
2020-03-27
|
1180
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匀胶显影机一般由四部分组成。第一部分是晶圆盒工作站(wafer cassette station),
晶圆盒
在这里装载到机器上。机械手(robot arm)从晶圆盒中把晶圆抽出来,传送到工艺处理部分(process block),即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体,增粘模块(adhesion enhancement)、热盘(hot plate)、冷盘(chill plate)、旋涂、显影等主要工艺单元都安装在这里,一个或两个机械手在各单元之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单元,包括晶圆表面水冲洗单元、背清洗单元等。第四部分是和光刻机联机的接口界面(interface),包括暂时储存晶圆的缓冲盒(buffer)、晶圆边缘曝光(wafer edge exposure,WEE)和光刻机交换晶圆的接口等。
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