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  • 06 2020-09
  • 27 2020-03

    长条玻璃片的涂胶机

    对长条玻璃片的涂胶机来说,通过旋涂是无法实现,若就是实现长条玻璃片的涂胶机的涂胶,但成本也是很可怕的,所以对于长条玻璃片的涂胶旋涂是不核算的,因而部份厂商目前基本上有两种方法:一、提拉法;二、狭缝涂胶法,以上这两种是对于胶厚的要求不高时可用,但对于胶厚的要求高时无法实现的。

  • 27 2020-03
  • 27 2020-03

    光刻机 -匀胶显影工艺前后的主要设备

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、匀胶(旋涂光刻胶)、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺); 在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

  • 27 2020-03
  • 27 2020-03

    匀胶显影机用机械手

    匀胶显影机用机械手装置的制作方法 技术领域: 本实用新型涉及轨道式匀胶/显影机中晶片的转移机构,具体为一种匀胶显影机用机械手装置。

  • 27 2020-03

    中国“匀胶显影机”行业市场前景分析预测报告

    本报告从以下几个角度对匀胶显影机行业的市场需求进行分析研究:

    1、市场规模:通过对过去连续五年中国市场匀胶显影机行业消费规模及同比增速的分析,判断匀胶显影机行业的市场潜力与成长性,并对未来五年的消费规模增长趋势做出预测。